Плазменный микродвигатель на основе искрового разряда с жидкометаллическим катодом

Исследованы параметры низкоиндуктивного импульсного вакуумного разряда с катодом из жидкометаллической In–Ga-эвтектики. Показано, что наложение на разряд поля постоянного магнита приводит к существенному изменению характера течения плазмы в разряде, что обеспечивает заметный (в 1.5–2 раза) рост импульса катодной струи. Тяговая характеристика разряда: импульс на единицу энергии накопителя составляет около 10 $\mu$N $\cdot$ s/J, что близко к лучшим известным значениям для аналогичных плазменных источников с твердым металлическим катодом.