|
|
Письма в Журнал технической физики, 2013, том 39, выпуск 6, страницы 33–40
(Mi pjtf8451)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Резонансное рассеяние на слое закритической плазмы конечных размеров
А. П. Анютинa, А. Д. Шатровb a Российский новый университет, Москва
b Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Численно исследована двумерная задача возбуждения цилиндрической волной слоя закритической плазмы конечного размера. Обнаружено, что частотная зависимость возбужденного поля при значениях параметров слоя, близких к значениям, приводящим в слое неограниченных размеров к трехкратному вырождению поверхностной волны, имеет резонансный характер. Рассчитаны ближние и дальние поля на резонансной частоте.
Поступила в редакцию: 23.10.2013
Образец цитирования:
А. П. Анютин, А. Д. Шатров, “Резонансное рассеяние на слое закритической плазмы конечных размеров”, Письма в ЖТФ, 39:6 (2013), 33–40; Tech. Phys. Lett., 39:3 (2013), 287–289
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8451 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v39/i6/p33
|
|