Текстурованные ленты-подложки из трехслойного композита Ni–5% W/Ni–11% Cr для высокотемпературных сверхпроводников второго поколения

Изучены процессы формирования текстуры рекристаллизации в трехслойной ленте Ni–5% W/Ni–11% Cr после холодной деформации прокаткой со степенями 98.4–99.3% и последующего высокотемпературного отжига 1000–1150$^\circ$C. Установлено, что текстурованная лента из трехслойного композита может быть использована в качестве подложки при создании ленточных высокотемпературных сверхпроводников второго поколения. Проведенная оценка магнитных свойств показала, что отожженная композитная лента имеет меньшую удельную намагниченность при рабочих температурах высокотемпературного сверхпроводника, чем широко используемая в настоящее время в промышленности лента из сплава Ni–5% W.