|
|
Письма в Журнал технической физики, 2013, том 39, выпуск 15, страницы 40–46
(Mi pjtf8561)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 11 научных статьях (всего в 11 статьях)
Зарядовое распределение ионов в плазме вакуумной дуги при малых токах
Г. А. Месяцab, Е. М. Оксab a Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
b Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск
Аннотация:
Исследовано зарядовое распределение ионов вакуумной дуги для медных электродов при токах 8–60 A. Напряжение горения дуги при этом возрастало с 21 до 24 V. В плазме присутствуют ионы меди с зарядовыми состояниями от +1 до +4. Величина средней зарядности ионов увеличивается с 2.15 до 2.24, т. е. всего на 4% за счет небольшого увеличения долей многозарядных ионов (Cu$^{2+}$ и Cu$^{3+}$) в общем потоке ионов. Этот вывод не противоречит выводу эктонной модели катодного пятна вакуумной дуги, согласно которой с увеличением тока прямо пропорционально растет и число ячеек в пятне, образованных за счет микровзрывов на катоде.
Поступила в редакцию: 28.03.2013
Образец цитирования:
Г. А. Месяц, Е. М. Окс, “Зарядовое распределение ионов в плазме вакуумной дуги при малых токах”, Письма в ЖТФ, 39:15 (2013), 40–46; Tech. Phys. Lett., 39:8 (2013), 687–689
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8561 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v39/i15/p40
|
|