|
|
Письма в Журнал технической физики, 2013, том 39, выпуск 21, страницы 52–59
(Mi pjtf8633)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Образование междоузельных атомов в поверхностных слоях вольфрама при имплантации гелия
О. В. Дудка, В. А. Ксенофонтов, А. А. Мазилов, Е. В. Саданов Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт"
Аннотация:
Методом полевой ионной микроскопии исследована атомная структура поверхности и приповерхностных областей совершенного бездислокационного вольфрама, облученного ионами гелия с энергией ниже порога смещения. Обнаружен выход из объема собственных междоузельных атомов, образующихся в результате процессов вытеснения атомов вольфрама из узловых решеточных позиций атомами внедренного гелия. Показано, что большие концентрации гелия и силы зеркального изображения оказывают существенное влияние на развитие этих процессов. В приповерхностном слое облученного металла обнаружены обедненные зоны, состоящие из гелий-вакансионных комплексов.
Поступила в редакцию: 07.06.2013
Образец цитирования:
О. В. Дудка, В. А. Ксенофонтов, А. А. Мазилов, Е. В. Саданов, “Образование междоузельных атомов в поверхностных слоях вольфрама при имплантации гелия”, Письма в ЖТФ, 39:21 (2013), 52–59; Tech. Phys. Lett., 39:11 (2013), 960–963
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8633 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v39/i21/p52
|
|