|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 3, страницы 10–16
(Mi pjtf8754)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Способ уменьшения паразитной емкости вертикально-излучающего лазера с селективно-окисленной апертурой
А. М. Надточийabc, С. А. Блохинabc, А. Г. Кузьменковabc, М. В. Максимовabc, Н. А. Малеевabc, С. И. Трошковabc, Н. Н. Леденцовabc, В. М. Устиновabc, A. Mutigd, D. Bimbergd a Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет)
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c ООО "Коннектор Оптикс", г. Санкт-Петербург
d Institut for Festkorperphysik, Technische Universitat Berlin, Berlin Germany
Аннотация:
Приведены результаты сравнительных исследований структурных параметров, статических и динамических характеристик вертикально-излучающих лазеров (VCSEL) с микрорезонаторами на основе Al$_{0.15}$Ga$_{0.85}$As и Al$_{0.8}$Ga$_{0.2}$As. Вследствие вертикального окисления слоев микрорезонатора Al$_{0.8}$Ga$_{0.2}$As при формировании оксидной токовой апертуры происходит значительное увеличение толщины оксида, приводящее к существенному уменьшению паразитной емкости прибора и увеличению в 1.7–2 раза частоты отсечки низкочастотного фильтра, образованного паразитными элементами электрической эквивалентной схемы.
Поступила в редакцию: 12.08.2011
Образец цитирования:
А. М. Надточий, С. А. Блохин, А. Г. Кузьменков, М. В. Максимов, Н. А. Малеев, С. И. Трошков, Н. Н. Леденцов, В. М. Устинов, A. Mutig, D. Bimberg, “Способ уменьшения паразитной емкости вертикально-излучающего лазера с селективно-окисленной апертурой”, Письма в ЖТФ, 38:3 (2012), 10–16; Tech. Phys. Lett., 38:2 (2012), 106–109
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8754 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i3/p10
|
|