Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 5, страницы 49–55 (Mi pjtf8787)  

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке

М. Э. Белоусовab, Э. А. Ильичевab, А. Е. Кулешовab, Н. К. Матвееваab, П. В. Минаковab, Г. Н. Петрухинab, Р. М. Набиевab, Г. С. Рычковab

a Государственный научно-исследовательский институт физических проблем имени Ф. В. Лукина
b Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына
Аннотация: Рассматривается технология формирования масок для травления алмазных пленок. Предлагаемая технология позволяет осуществить высокоточную литографию на алмазных пленках с площадью до 10$^4$ mm$^2$. Минимальные размеры, которые могут быть при этом реализованы, определяются только уровнем литографии, достигнутой для кремниевых интегральных схем. Предлагаемая технология может быть использована для разработки уникальных приборов, в том числе и биосенсора для расшифровки генома человека.
Поступила в редакцию: 21.06.2011
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2012, Volume 38, Issue 3, Pages 225–227
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785012030054
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. Э. Белоусов, Э. А. Ильичев, А. Е. Кулешов, Н. К. Матвеева, П. В. Минаков, Г. Н. Петрухин, Р. М. Набиев, Г. С. Рычков, “Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке”, Письма в ЖТФ, 38:5 (2012), 49–55; Tech. Phys. Lett., 38:3 (2012), 225–227
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BelIliKul12}
\by М.~Э.~Белоусов, Э.~А.~Ильичев, А.~Е.~Кулешов, Н.~К.~Матвеева, П.~В.~Минаков, Г.~Н.~Петрухин, Р.~М.~Набиев, Г.~С.~Рычков
\paper Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2012
\vol 38
\issue 5
\pages 49--55
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf8787}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20327812}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2012
\vol 38
\issue 3
\pages 225--227
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785012030054}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8787
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i5/p49
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025