|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 5, страницы 49–55
(Mi pjtf8787)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке
М. Э. Белоусовab, Э. А. Ильичевab, А. Е. Кулешовab, Н. К. Матвееваab, П. В. Минаковab, Г. Н. Петрухинab, Р. М. Набиевab, Г. С. Рычковab a Государственный научно-исследовательский институт физических проблем имени Ф. В. Лукина
b Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына
Аннотация:
Рассматривается технология формирования масок для травления алмазных пленок. Предлагаемая технология позволяет осуществить высокоточную литографию на алмазных пленках с площадью до 10$^4$ mm$^2$. Минимальные размеры, которые могут быть при этом реализованы, определяются только уровнем литографии, достигнутой для кремниевых интегральных схем. Предлагаемая технология может быть использована для разработки уникальных приборов, в том числе и биосенсора для расшифровки генома человека.
Поступила в редакцию: 21.06.2011
Образец цитирования:
М. Э. Белоусов, Э. А. Ильичев, А. Е. Кулешов, Н. К. Матвеева, П. В. Минаков, Г. Н. Петрухин, Р. М. Набиев, Г. С. Рычков, “Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке”, Письма в ЖТФ, 38:5 (2012), 49–55; Tech. Phys. Lett., 38:3 (2012), 225–227
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8787 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i5/p49
|
|