|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 6, страницы 90–95
(Mi pjtf8808)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 14 научных статьях (всего в 14 статьях)
Светодиод на основе III-нитридов на кремниевой подложке с эпитаксиальным нанослоем карбида кремния
С. А. Кукушкинab, А. В. Осиповab, С. Г. Жуковab, Е. Е. Заваринab, В. В. Лундинab, М. А. Синицынab, М. М. Рожавскаяab, А. Ф. Цацульниковab, С. И. Трошковab, Н. А. Феоктистовab a Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Впервые выращена светодиодная структура на основе III-нитридов на подложке кремния (111) с использованием нанослоя SiC (50–200 nm), полученного методом твердофазной эпитаксии. При этом достигается рекордно низкая плотность дислокаций несоответствия решеток $<$ 10$^8$ cm$^{-2}$ при общей плотности дислокаций $\sim$8 $\cdot$ 10$^8$ cm$^{-2}$. Измерены спектры фото- и электролюминесценции полученных структур.
Поступила в редакцию: 15.11.2011
Образец цитирования:
С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, С. Г. Жуков, Е. Е. Заварин, В. В. Лундин, М. А. Синицын, М. М. Рожавская, А. Ф. Цацульников, С. И. Трошков, Н. А. Феоктистов, “Светодиод на основе III-нитридов на кремниевой подложке с эпитаксиальным нанослоем карбида кремния”, Письма в ЖТФ, 38:6 (2012), 90–95; Tech. Phys. Lett., 38:3 (2012), 297–299
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8808 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i6/p90
|
|