|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 9, страницы 74–80
(Mi pjtf8845)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Выращивание кристаллов Bi$_{12}$SiO$_{20}$ большого диаметра (85 mm)
Д. С. Панцуркинa, В. Н. Шлегельa, В. М. Мамедовb, М. Г. Васильевb, В. С. Юферевb a Институт неорганической химии им. А. В. Николаева СО РАН, г. Новосибирск
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
С использованием компьютерного моделирования найдены условия для воспроизводимого выращивания совершенных кристаллов Bi$_{12}$SiO$_{20}$ с ориентацией $\langle$110$\rangle$ низкоградиентным методом Чохральского, когда фронт кристаллизации полностью занят гранью (110). Получены кристаллы диаметром 85 mm, длиной 200 mm и весом 10 kg. Плотность дислокации в выращенных кристаллах не превосходит 10 cm$^{-2}$, а неоднородность коэффициента преломления не более 10$^{-3}$.
Поступила в редакцию: 06.12.2011
Образец цитирования:
Д. С. Панцуркин, В. Н. Шлегель, В. М. Мамедов, М. Г. Васильев, В. С. Юферев, “Выращивание кристаллов Bi$_{12}$SiO$_{20}$ большого диаметра (85 mm)”, Письма в ЖТФ, 38:9 (2012), 74–80; Tech. Phys. Lett., 38:5 (2012), 432–435
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8845 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i9/p74
|
|