Стабилизация орторомбической фазы NiF$_2$ в эпитаксиальных гетероструктурах на подложках CaF$_2$/Si(111)

Впервые методом молекулярно-лучевой эпитаксии выращены эпитаксиальные слои NiF$_2$ на подложках CaF$_2$(111)/Si(111). Методами дифракции быстрых электронов и рентгеновской дифрактометрии установлено, что слои кристаллизовались в метастабильной орторомбической фазе и были определены эпитаксиальные соотношения на гетерогранице NiF$_2$/CaF$_2$:(100)$_{\mathrm{NiF}_2}$ $\parallel$ (111)$_{\mathrm{CaF}_2}$, [001]$_{\mathrm{NiF}_2}$ $\parallel$ $[1\bar10]_{\mathrm{CaF}_2}$.