|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 19, страницы 9–13
(Mi pjtf8964)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Температурно-зависимое интегральное поглощение экситона в полупроводниковых кристаллах GaAs
С. А. Ваганов, Р. П. Сейсян Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Экспериментально исследована температурная зависимость края фундаментального поглощения тонких слоев GaAs, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Экспериментально определены критическая температура $T_c$ = 135 K, выше которой интегральное поглощение становится постоянным, соответствующие ей значения критического параметра затухания $\Gamma_c$ = 0.248 meV и продольно-поперечного расщепления $\hbar\omega_{\mathrm{LT}}$ = 0.082 meV. Выделена температурная зависимость истинного диссипативного затухания.
Поступила в редакцию: 04.06.2012
Образец цитирования:
С. А. Ваганов, Р. П. Сейсян, “Температурно-зависимое интегральное поглощение экситона в полупроводниковых кристаллах GaAs”, Письма в ЖТФ, 38:19 (2012), 9–13; Tech. Phys. Lett., 38:10 (2012), 873–875
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf8964 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i19/p9
|
|