|
|
Письма в Журнал технической физики, 2012, том 38, выпуск 24, страницы 86–94
(Mi pjtf9039)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Рост пленок InN методом металлоорганической газофазной эпитаксии при активации азота в плазме, создаваемой гиротронным излучением
Ю. Н. Бузынинab, М. Е. Викторовab, А. В. Водопьяновab, С. В. Голубевab, М. Н. Дроздовab, Ю. Н. Дроздовab, А. Ю. Лукьяновab, Д. А. Мансфельдab, Е. В. Скороходовab, О. И. Хрыкинab, В. И. Шашкинab a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Институт прикладной физики РАН, г. Нижний Новгород
Аннотация:
Впервые методом металлоорганической газофазной эпитаксии с плазменной активацией азота в электронно-циклотронном резонансном разряде, создаваемом излучением технологического гиротрона, при низких (350$^\circ$C) температурах роста получены пленки InN гексагональной модификации на подложках иттрием стабилизированного циркония, yttria stabilized zirconia (YSZ) ориентаций (111) и (100) и Al$_2$O$_3$ (0001) со скоростью роста 1 $\mu$m $\cdot$ h$^{-1}$. Пленки, выращенные без буферного слоя, имеют структуру текстурированного поликристалла. С использованием двойного буферного слоя InN/GaN на подложках Al$_2$O$_3$ (0001) получены монокристаллические пленки InN. Приводятся данные по морфологии, структуре и фотолюминесцентным свойствам выращенных пленок.
Поступила в редакцию: 06.07.2012
Образец цитирования:
Ю. Н. Бузынин, М. Е. Викторов, А. В. Водопьянов, С. В. Голубев, М. Н. Дроздов, Ю. Н. Дроздов, А. Ю. Лукьянов, Д. А. Мансфельд, Е. В. Скороходов, О. И. Хрыкин, В. И. Шашкин, “Рост пленок InN методом металлоорганической газофазной эпитаксии при активации азота в плазме, создаваемой гиротронным излучением”, Письма в ЖТФ, 38:24 (2012), 86–94; Tech. Phys. Lett., 39:1 (2013), 51–54
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf9039 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v38/i24/p86
|
|