Воздействие излучения пятой гармоники Nd:YAP-лазера (λ = 216 нм) на фоточувствительные пленки из германосиликатного стекла

Исследованы спектр поглощения, показатель преломления и рельеф поверхности пленки из германосиликатного стекла с бором при неразрушающем воздействии пятой гармоники излучения импульсно-периодического Nd:YAP-лазера с λ = 216 нм (энергия кванта 5.75 эВ). Показано, что облучение пленок приводит к существенному фоторефрактивному эффекту, несмотря на относительно небольшой коэффициент поглощения. Установлено, что при плотности энергии 100 мДж/см² и выше заметный вклад в поглощение лазерного излучения на λ = 216 нм дают двухфотонные процессы. Дифракционная эффективность фотоиндуцированных фазовых решеток достигала ~7 × 10^-3 при дозе облучения ~6 кДж/см², что соответствует наведенному показателю преломления ~1.5 × 10^-3. Бóльшая доза облучения приводит к появлению рельефа на поверхности пленки и снижению дифракционной эффективности фазовой решетки.