Математическая модель динамики распределения тока электронного пучка в вольфрамовой пластинке и тонком слое его паров при импульсном нагреве с учётом электродвижущей силы

В работе впервые представлена новая модель распределения тока в образце вольфрама и испаряемом веществе при нагреве поверхности электронным пучком. Модель основана на решении уравнений электродинамики в цилиндрической системе координат с использованием модельного распределения температуры в образце и тонком слое испаряемого вольфрама. Проведён анализ модели в упрощённой постановке при постоянных значениях электрического сопротивления и термоэдс в газе и металле. Показана зависимость амплитуды и изолиний термотоков от распределения температуры на поверхности образца. Параметры модели взяты из экспериментов на стенде Beam of Electrons for materials Test Applications (BETA), созданного в ИЯФ СО РАН.