Численный анализ кинетики химических реакций в аргон-силановой плазме тлеющего разряда

Путем численного решения уравнений диффузии для нейтральных компонентов с учетом протекания химических реакций в газовой фазе проведено моделирование состава аргон-силановой плазмы тлеющего разряда. Анализируется вклад наиболее значимых химических реакций в кинетику образования и гибели различных компонентов плазмы. Исследуется кинетика реагентов в зависимости от времени пребывания рабочего газа в разрядной зоне. Обсуждается вопрос о количестве компонентов, включаемых в модель. Показано, что для интервалов времени $t\leqslant 10^{-2}$ с компоненты Si$_n$H$_x$ ($n\geqslant 3$) не существенны для моделирования химической кинетики пленкообразующих радикалов.