|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2021 |
| 1. |
V. N. Kruchinin, V. A. Volodin, S. V. Rykhlitskii, V. A. Gritsenko, I. P. Posvirin, Xiaoping Shi, M. R. Baklanov, “Atomic structure and optical properties of plasma enhanced chemical vapor deposited SiCOH Low-k dielectric film”, Оптика и спектроскопия, 129:5 (2021), 618  ; Optics and Spectroscopy, 129:6 (2021), 645–651 |
6
|
|
